1. Полещенко К.Н., Коротаев Д.Н., Семенюк Н.А., Иванова Е.В., Коденцева Ю.В. Роль инновационных интегрированных структур в развитии высокотехнологичного сектора региональной экономики // Российский экономический журнал. 2023. № 5. С. 80-96. DOI:https://doi.org/10.52210/0130-9757_2023_5_80.
2. Yablokov M.Yu., Gil'man A.B., Strel'tsov D.R., Gaidar A.I., Kuznetsov A.A. Film growth characteristics during plasma polymerization of 1-aminonaphthalene // High Energy Chemistry. 2012. Vol. 46, no. 4. P. 294 295. DOI:https://doi.org/10.1134/S0018143912040170.
3. Kravets L.I., Lizunov N.E., Satulu V., Dinescu G., Gil'man A.B. Preparation of composite membranes by means of plasma polymerization of tiophene // High Energy Chemistry. 2008. Vol. 42, no. 5. P. 391-398. DOI:https://doi.org/10.1134/S001814390805010X.
4. Zhang B., Wang D., Tang J., Wang X., Wei Z., Nie Z., Wang B., Zhang J., Xing G., Zhang W. Ultrafast carrier relaxation dynamics of photoexcited GaAs and GaAs/AlGaAs nanowire array // PCCP: Physical Chemistry Chemical Physics. 2020. Vol. 22, no. 44. P. 25819-25826. DOI:https://doi.org/10.1039/d0cp04250a.
5. Sitanov D.V. Physical aspects of the chemicalyy active medium formation in chlorine plasma under pulsed discharge energization // From Chemistry Towards Technology Step-By-Step. 2023. Vol. 4, no 1. P. 124-135. DOI:https://doi.org/10.52957/27821900_2023_01_124. URL: http://chemintech.ru/index.php/tor/2023-4-1
6. Sitanov D.V., Pivovarenok S.A. Visualization of defects on the semiconductor surface using a dielectric barrier discharge // Russian Microelectronics. 2018. Vol. 47, no. 1. P. 34-39. DOI:https://doi.org/10.1134/S1063739718010067.
7. Gushchin A.A., Grinevich V.I., Izvekova T.V., Kvitkova E.Y., Sulaeva O.Y., Baburina E.M., Rybkin V.V. Water purification to remove naphthalene by treatment with dielectric-barrier discharge in oxygen // High Energy Chemistry. 2022. Vol. 56, no. 3. P. 208-212. DOI:https://doi.org/10.1134/S0018143922020047.
8. Vasilets V.N., Gutsol A., Shekhter A.B., Fridman A. Plasma medicine // High Energy Chemistry. 2009. Vol. 43, no. 3. P. 229-233. DOI:https://doi.org/10.1134/S0018143909030126.
9. Агафонов А.В., Сироткин Н.А., Титов В.А., Хлюстова А.В. Плазменно-растворный синтез слоистых двойных гидроксидов Zn-Al // Неорганические материалы. 2022. Т. 58, № 11. С. 1177-1183. DOI:https://doi.org/10.31857/S0002337X2211001X.
10. Sitanov D.V., Pivovarenok S.A. Kinetics of atomic recombination on silicon samples in chlorine plasma // Plasma Physics Reports. 2018. Vol. 44, no. 8. P. 713-722. DOI:https://doi.org/10.1134/S0367292118080085.
11. Василец В.Н. Плазмохимическое получение оксидов азота в воздушной плазме для медицинских целей // Известия вузов. Химия и химическая технология. 2019. Т. 62, № 5. С. 4-13. DOI:https://doi.org/10.6060/ivkkt.20196205.5958.
12. Подорожний О.В., Румянцев А.В., Волков Р.Л., Боргардт Н.И. Моделирование процессов распыления материала и имплантации галлия при воздействии фокусированного ионного пучка на кремниевую подложку // Известия вузов. Электроника. 2023. Т. 28, № 5. С. 555-568. DOI:https://doi.org/10.24151/1561-5405-2023-28-5-555-568.