LDR 00790naa#a2200181#i#450#
001     RU\\bibl\82530
005     20241123111305.6
011 ## _a2782-1900
100 ## _a20211223b2021####ek#y0rusy0150####ca
101 0# _aENG
102 ## _aRU
200 1# _aThe role of chemical processes in the technological treatment of gallium arsenide under conditions of low-temperature non-equilibrium plasma reduced pressure in chlorine
       _eЖурнальная статья
210 1# _aЯрославль
       _cЯрославский государственный технический университет
       _d2021
215 ## _a7 с.
608 ## _aЖурнальная статья
       _2local
675 ## _aсредняя. 66-914.5
       _zENG
700 #1 _aСитанов
       _gДмитрий Вячеславович
856 4# _achemintech.ru
       _u